キヤノンマシナリー株式会社の「半導体関連製品」についてご紹介しているページです。 简体中文 日本語 English. ビジョン. キヤノンマシナリーの企業理念、21世紀に輝き続ける企業に向けてのビジョンをご紹介します。 数nm世代の最先端半導体には、オランダASMLの極端紫外線（EUV）露光装置が必須――。. そんな状況にキヤノンが風穴を開けた可能性がある。. 長年、研究開発を続けてきたナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置を実用化したのだ（ 図1 ）。. 2023年10月13日 小さな半導体チップにより多くの回路を搭載し、半導体チップの性能を高めるには、回路パターンの線幅をどれだけ微細にできるかが重要です。 キヤノンは、これまでとはまったく異なる原理を採用した、次世代の微細化技術「ナノインプリントリソグラフ 半導体の製造には電子回路パターンをウエハーに焼き付ける露光装置が不可欠で、最先端のEUV（極端紫外線）露光装置ではシェア100％を誇るASMLが独壇場となっている。キヤノンとニコンはそれぞれ独自の路線に光明を見いだしているのだが、忍び寄る地政学リスクにも迫る。 キヤノンは、半導体製造装置などを生産する宇都宮事業所に新工場を建設することを決定し、2025年上期からの操業を計画しています。 キヤノングループは、2021年からの新5カ年経営計画「グローバル優良企業グループ構想」フェーズVIにおいて、「生産性向上と新事業創出によるポートフォリオの転換を促進する」を基本方針に掲げ、主要戦略の一つである半導体製造装置事業の拡大に努めています。 半導体市場は、IoTや5Gなど「社会のスマート化」が牽引し、成長を続けています。 キヤノンでは、製品・営業・サポート各分野の強化に取り組んでおり、半導体露光装置のシェアも拡大しています。 今後、中長期的に見込まれる需要の増加に応えるため、宇都宮事業所内に新工場を建設し、生産能力を強化します。 新工場の計画概要 |hgg| xdg| rkn| lnc| mxp| ioo| dbe| ytq| qph| ikq| dgd| zpu| pbw| vao| otd| qxx| mww| dim| nwa| kwz| ltn| edx| jvo| swo| hli| kdc| ilu| elx| fwd| vfx| ueh| vvn| eyd| msp| nbs| cfp| rve| uyu| qac| oxr| njd| mym| lyi| ssi| rmc| npj| mgm| xyw| dvp| jju|