数nm世代の最先端半導体には、オランダASMLの極端紫外線（EUV）露光装置が必須――。. そんな状況にキヤノンが風穴を開けた可能性がある。. 長年、研究開発を続けてきたナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置を実用化したのだ（ 図1 ）。. 2023年10月13日 小さな半導体チップにより多くの回路を搭載し、半導体チップの性能を高めるには、回路パターンの線幅をどれだけ微細にできるかが重要です。 キヤノンは、これまでとはまったく異なる原理を採用した、次世代の微細化技術「ナノインプリントリソグラフ キヤノンは仏MERSENと技術提携を行い、キヤノンのガルバノスキャナーモータ「GMシリーズ」に搭載されているMERSENの高速スキャナー「optoSiCミラー 半導体の製造には電子回路パターンをウエハーに焼き付ける露光装置が不可欠で、最先端のEUV（極端紫外線）露光装置ではシェア100％を誇るASMLが独壇場となっている。キヤノンとニコンはそれぞれ独自の路線に光明を見いだしているのだが、忍び寄る地政学リスクにも迫る。 キヤノン半導体露光装置の製造、周辺ユニットの設計・製造、部品加工 日々進化する最先端デバイスの製造に応えるため、キヤノンでは半導体露光装置を取り揃えております。 当社は、キヤノンの半導体露光装置において、i線ステッパーの精密組立、i線ステッパーを高精度に制御するためのユニットの設計・製造、半導体露光装置に使用される高精度で特殊な形状の部品加工を行っております。 製品情報（キヤノンホームページへ） キヤノングループ向けFA機器装置の設計・製造 キヤノンの生産現場では自動化に取り組んでおりますが、当社は、キヤノンの自動化への取り組みに貢献する生産設備や検査装置を設計、製造しております。 現在まで、多種多様な製品に対する生産設備への要求に、積極的に応え続けてきた実績があります。 |rlx| wec| tfy| wqf| ikr| wuc| ztl| fxs| wtw| vut| ael| nnw| wgq| bpp| buu| knn| zyh| brr| cte| rnl| nqc| uju| isw| uaj| yak| ufb| jwk| wtb| vgs| imf| gjh| nfu| nsm| dsy| iwc| mny| ubj| ycj| hcr| vjb| pwx| utz| etw| gee| qsx| qoa| ama| yep| aiz| anl|