研磨 パッド
CMPパッド / IC1000™ CMP研磨用のウレタンパッドです。 特殊構造で研磨剤を均一に行き渡らせ、優れた研磨面を実現します。 特長 CMP(Chemical Mechanical Polishing: 化学機械研磨)工程に適しています。 高均一な微小発泡構造を持つ特殊ポリウレタンパッドです。
各種基板の一次研磨用・二次研磨用・仕上げ研磨用パッドから、半導体デバイスCMP用パッドまで幅広くご用意しております。 研磨対象物の種類と寸法、定盤径や希望される仕上がり等をご相談いただければ、非掲載製品も含めて最適な研磨パッドをご提案致します。
超精密研磨を可能にする 多様な製品. polypas®ポリッシング用パッドは、cmp、シリコンウエハー、ハードディスク、液晶ガラスにとどまらず様々な用途に対応できる種類を揃えています。精密研磨パッドの両面テープ 2023.01.18. 精密研磨パッドの両面テープはどんなものが良いのか? 精密研磨パッドは、研磨定盤に両面テープで貼り付けて使用します。 この貼り付け方も奇麗に貼り付けない[…] 高品質な精密研磨を実現!
ダイヤモンド固定砥粒パッドTOPXは、バンドー化学がこれまで培ってきたゴム、樹脂に関する 材料、加工、混合、分散、接着、成形の技術を生かした高効率な基板研磨材です。. 目的の研磨レートや粗さに対応できるように、砥粒の粒径、バインダーの種類
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