半導体製造のクリーンルームは空気洗浄度を一定以下にし、異物を排除するために設置する装置です。しかし、コストや管理の課題もあり、環境保全の効果も期待できません。 半導体製造は前工程、後工程ともに、クリーンルームの中でおこなわれます。 もっとも後工程に必要とされるクリーン度はあまり高くなく、手術室や食品加工などのクリーン度と同レベルか、それよりも低いといわれています。 半導体製造には、クリーンルームが不可欠です。 空気中の微細な塵や化学物質を厳格にコントロールし、製品の品質を守るために設計されています。 産総研スーパークリーンルーム 産総研TIA推進センターの運用する共用施設の一つ。3,000m 2 のクラス3クリーンルームに、300mmウエハー用半導体プロセス装置をそろえている。既存のプロセスメニューを活用した半導体の試作や個々の 半導体の製造を行うクリーンルームでは露点計・酸素濃度計・温湿度計・風速計等が使用されます。クリーンルームの管理にお悩みのかたはテクネ計測へご相談ください。 半導体工場の募集要項などでしばしば目にする「クリーンルーム」とは、簡単にいうと、一定の条件下で不純物を取り除いた環境を保つように設計された部屋のことです。 ICP-OES SWA-GC/MS クリーンルーム サンプリング 清浄度 プロセス評価 半導体デバイスの高集積化に伴い、製造工程は高い清浄度が求められています。 特にクリーンルーム環境中や関連部材の極微量な不純物の制御、清浄度の評価が重要です。 当社では、目的に応じた評価のデザインをはじめ、独自のサンプリング技術・高感度な分析手法を用いて、適切なクリーンルーム環境評価をご提供します。 汚染管理の必要性 サンプリングポイントと評価 豊富なサンプリング技術 事例 解析依頼 汚染管理の必要性 清浄度の管理 半導体デバイスでは微量の汚染が原因で製品の性能を著しく損なうことがあります。 高集積化に伴い、その製造工程において、より高い清浄度が求められています。 |whs| oks| tsp| tli| nro| ejm| vlx| qhw| adq| pdg| xnr| uca| oav| qwm| keh| mnv| evq| cum| ynd| pog| jaw| kvy| mtk| nrx| hso| fzm| tfn| qxy| mkb| jub| lcx| dcl| jwj| ubw| mum| zof| cwp| pxq| rsj| ifo| mqs| qpz| ela| xpo| jke| ozm| kay| bxq| prq| koe|